Pada proses produksi dengan panjang gelombang 300 mm, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah termal biasa. Proses ini sangat penting untuk menjaga ketepatan dimensi komponen yang dihasilkan. Jika suhu selama proses pemanasan sedikit saja menyimpang dari rentang ±0,1°C, maka kontrol ketepatan dimensi tersebut akan terganggu. Pemanas konvensional memiliki masalah terkait repetibilitas suhu di bagian pinggir wafer, sementara oven konvektif dapat membawa kontaminan ke dalam ruang produksi. Di ruang bersih kelas 1–100, pembentukan partikel-partikel kecil dan downtime yang tidak terduga bukanlah masalah yang sepele; hal tersebut dapat merusak seluruh batch produksi.
Apa yang penting dalam sistem ini? Kami merancang pengering wafer berbasis radiasi inframerah dekat: pemanasan yang efektif tanpa adanya aliran udara. Hasilnya adalah keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer hingga ±0,1°C, serta suhu bahan fotoresist yang tetap stabil dalam hitungan detik. Tidak adanya aliran udara berarti tidak ada partikel-partikel yang bisa masuk ke dalam ruang produksi. Ruang produksi ini benar-benar tertutup, sehingga satu-satunya benda yang bersentuhan dengan wafer hanyalah wafer itu sendiri.
Sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7. Komponennya dirancang untuk digunakan secara terus-menerus, dan struktur termalnya mampu mempertahankan repetibilitas suhu meski sudah digunakan ribuan kali. Kompatibilitas dengan ruang bersih juga telah diterapkan dalam desainnya, sehingga tingkat kontaminasi partikel tetap rendah.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi? Dalam proses litografi, keseragaman suhu sangat penting untuk menjaga stabilitas dimensi komponen yang dihasilkan. Pengering berbasis inframerah dekat dapat mengurangi waktu pemanasan, menghemat energi, dan menghilangkan variasi suhu yang disebabkan oleh perbedaan suhu di bagian pinggir wafer. Dengan demikian, distribusi suhu menjadi lebih baik, jumlah produk yang harus dibuat ulang berkurang, dan kinerja proses menjadi lebih prediktif.
Penggunaan energi pun berkurang, karena energi digunakan langsung untuk memanaskan wafer, bukan untuk memanaskan udara atau komponen lainnya. Interval perawatan juga meningkat, karena ada lebih sedikit bagian yang mudah aus. Selain itu, jendela waktu proses produksi pun menjadi lebih luas, karena ketepatan suhu tidak lagi menjadi hambatan.
Apa yang perlu dipersiapkan? Penggunaan teknologi inframerah dekat memerlukan pandangan langsung ke permukaan wafer. Oleh karena itu, tata letak peralatan harus memastikan jalur cahaya tetap terbuka di dalam ruang produksi. Saat mengintegrasikan peralatan ini ke sistem yang sudah ada, perhatikan aspek mekanis dan protokol komunikasinya. Kami menyediakan spesifikasi antarmuka sejak awal, sehingga Anda tidak akan menghadapi masalah saat proses integrasi nanti.
Pada tahap kualifikasi awal, diperlukan waktu singkat untuk menyetel parameter proses pengeringan bahan fotoresist. Setelah itu, proses produksi akan berjalan secara konsisten, tanpa gangguan. Hari demi hari, batch demi batch.