もう、ベンチトップ型の加熱装置に頼るのはやめましょう。半導体の製造においては、スピードが全てです。もし依然として熱風を使って部品を加熱しているのであれば、それはまさに行き詰まり状態です。
熱風の仕組みを考えてみてください。まず空気を加熱し、その空気が部品を温めるのを待つわけです。これは中間者がいるようなものです。高圧環境下では、この中間者が作業の速度を遅らせてしまいます。
本来の問題は、その遅延です。
ここで役立つのが赤外線ランプです。熱風を使う代わりに、赤外線は放射熱を利用します。この波は光速で移動し、直接対象物を温めます。中間者もいないし、風が部品を温めるのを待つ必要もありません。
クリーンルームに赤外線ランプを設置すれば、単なる機器を購入するだけではありません。自分の時間を取り戻すことにもなります。
ウェーハを例に考えてみましょう。熱風オーブンでは表面温度が安定するのに10分かかるかもしれませんが、赤外線ランプなら数秒で済みます。これが、ただタイマーを見ているだけと、実際に作業を進めることの違いです。
作業場所の整理も簡単になります
また、これらの装置は大きな送風機や断熱されたダクトと比べて非常にコンパクトです。巨大な送風機やベンチの半分を占める断熱ダクトは不要になります。ランプをPIDコントローラーに接続し、天井に設置すればOKです。
もう一つの利点は、部屋全体が温められない点です。熱が特定の場所に集中するため、HVACシステムが過度に稼働する必要がなく、周囲の温度が急上昇して他の精密機器が故障する心配もありません。
ただし、欠点もあります
赤外線ランプも万能ではありません。方向性があるのです。
部品の形状が複雑だったり、深い部分があったりすると、「シャドウ効果」が発生し、熱がその部分に届かなくなります。これを解決するには、単に1つのランプを設置するだけでは不十分で、複数のランプを適切に配置して、すべての場所が均等に加熱されるようにする必要があります。
また、これらのランプからは非常に強い熱が放出されるので、ベンチの表面が変形したり溶けたりしないように注意が必要です。