Op de lithografieafdeling zorgt de verwarmingsunit niet alleen voor warmte, maar bepaalt ook het thermische regime voor het hele fotorezystsysteem. Een afwijking van 0,5°C tijdens het verhitten van het materiaal heeft invloed op de viscositeit, de kwaliteit van de randen en de controle over de cruciale dimensies. Als er een vereiste is van een gelijkmatigheid van ≤±0,1°C over het hele oppervlak van het substraat, dan is deze verwarmingsunit geen accessoire meer – het is juist het belangrijkste element in het proces.
Wat we hiermee bereiken, is eenvoudig: we gebruiken een hittebron die compatibel is met schone ruimtes en die gebruikmaakt van kortegolf-infraroodstraling. Dit zorgt voor een snelle reactie zonder dat er deeltjes vrijkomen. De temperatuurregelaar zorgt ervoor dat de temperatuur over het hele actieve gebied op ±0,1°C blijft. De oppervlakken van de kamer zijn gemaakt van roestvrij staal en er is een HEPA-filter ingebouwd om de hoeveelheid deeltjes onder controle te houden. Hierdoor blijft de reproduceerbaarheid hoog, omdat je een vaste thermische profilering kunt instellen en opslaan voor elke batch.
Dit werkt goed omdat er een constante hechting nodig is en de stofstroom goed gecontroleerd moet worden, zonder dat er gasen vrijkomen of dat het fotorezyst beschadigt raakt. De verwarmingsunit bereikt snel de gewenste temperatuur, waardoor er minder verschillen tussen de verschillende wafers zijn. Het resultaat is een betere kwaliteit van de productie en minder herwerkingen. In praktijk betekent dit een hogere productiecapaciteit, minder energieverbruik per wafer en een consistente thermische prestatie, batch na batch.
Er zijn nog een paar praktische punten. De unit kan gemakkelijk worden geïntegreerd in de meeste laminatieapparaten, maar je moet wel rekening houden met de afmetingen en de routing van de luchtstroom. Er zal wat tijd nodig zijn om de thermische profilering af te stemmen op je specifieke apparatuur en substraat. Let ook op de maximale temperatuur: als deze te dicht bij de limiet van het fotorezyst ligt, neemt de mogelijkheid om het proces te verbeteren af. Houd de temperatuur minstens 10°C lager dan de drempelwaarde om schade aan het fotorezyst te voorkomen.