Sušička čipů v blízkém infračerveném spektru (NIR)
V řadě 300 mm není sušení fotorezistu jen dalším tepelným krokem. Jde o záruku přesnosti rozměrů. I nepatrné odchylky o několik desetin stupně Celsia...
DNS (Screen) sušička wafers lampy
Na lithografické lince není odchylka 1 °C při měkkém nebo tvrdém pečení „malá chyba“. Je to prostě ztráta výnosu. Sledujete, jak v waferech zůstává...