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		<title>Abspülen on Focused IR Heating Beams</title>
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				<title>Wasserdichte Infrarotlampe zum Abspülen</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/de/posts/reducing-equipment-wall-temperature-in-semiconductor-rinse-stages-via-directional-infrared-heating/</link>
				<pubDate>Fri, 24 Jul 2026 11:55:01 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Wasserdichte Infrarotlampe zum Abspülen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Beendigung des „Hot Wall“-Problems in den Reinigungsstufen von Halbleitern&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wer schon einmal mit der feuchten Verarbeitung von Halbleitern zu tun hatte, kennt das Problem. Während des Reinigungsprozesses muss die Waferoberfläche erhitzt werden – doch man möchte vermeiden, dass das Gehäuse der Anlage zu einem Ofen wird.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Herkömmliche Strahlungswärmer funktionieren im Grunde wie Glühbirnen – sie strahlen Wärme in alle Richtungen ab. Dadurch werden die Innenwände des Gehäuses extrem heiß. Das ist eine Energieverschwendung – und außerdem eine echte Sicherheitsgefahr für die Mitarbeiter, die in der Nähe der Maschine arbeiten.&lt;/p&gt;</description>
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