DNS (Bildschirm) Wafer Trocknerlampe

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Auf der Lithografiebühne ist eine Drift von 1 °C beim Softbake oder Hardbake kein „kleiner Fehler“. Es ist ein Ertragseinbruch, ganz einfach. Sie beobachten, wie Wafer die Bahn mit Kantenbead, Linienbreitenstreuung oder Lösungsmittel verlassen, das sich nie vollständig verflüchtigt hat - Rückstände, die später als Defekt auftreten. Was Sie brauchen, ist eine Wärmequelle, die den gesamten Wafer als einen thermischen Körper behandelt, nicht als Flickenteppich aus heißen und kalten Stellen.

Infrarot-Präzision: Sub-Millimeter-Einheitlichkeit, wiederholbar

Die DNS-Screen-Wafer-Trocknerlampe basiert auf kontrollierter Nahinfrarot-(NIR)-Heizung, die darauf abgestimmt ist, ein sub-millimeter gleichmäßiges thermisches Feld über die Waferfläche bereitzustellen. In der Praxis bedeutet das eine konsistente Temperatur des Fotolacks vom Zentrum bis zum Rand, sodass das Softbake Lösungsmittel gleichmäßig entfernt und das Hardbake das Resistprofil fixiert - ohne Nachfließen oder Schaumigkeit.
Das System hält die Wiederholbarkeit von Charge zu Charge und von Schicht zu Schicht, sodass Ihre kritischen Dimensionen (CD) nicht wandern, wenn sich die Umgebungsbedingungen ändern. Die Lampenleistung bleibt über lange Einsätze stabil, und das Design minimiert die Partikelerzeugung auf nahezu null - genau das, was Sie benötigen, wenn Sie in Reinräumen der Klasse 1–100 arbeiten.

DNS on Focused IR Heating Beams

DNS (Bildschirm) Wafer Trocknerlampe

Infrarot-Präzision: Sub-Millimeter-Einheitlichkeit, wiederholbar