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		<title>(DUV) on Focused IR Heating Beams</title>
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				<title>Trocknungslampe für Deep UV (DUV) Resiststoffe</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Trocknungslampe für Deep UV (DUV) Resiststoffe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Lithografie-Ebene lernt man schnell: Ein leichter oder starker Trocknungsprozess kann zu unerwarteten Problemen führen. Schon eine Abweichung von einem halben Grad kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen nicht mehr eingehalten werden können. Zudem kann ein Anstieg der Teilchenkonzentration dazu führen, dass ein guter Wafer plötzlich als Schrott gilt. Die DUV-Resist-Trocknungsanlage hilft dabei, solche Unwägbarkeiten auszuschließen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist:&lt;/strong&gt;&#xA;Es geht darum, eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Wafer-Oberfläche zu gewährleisten – innerhalb von ±0,1°C. So trocknet die gesamte Oberfläche des Photoresists auf dieselbe Weise, egal welche Charge es ist. Die kurzwellige Strahlung sowie das auf Quarz optimierte Design sorgen für eine schnelle und kontrollierte Erhitzung – ohne Hotspots. Zudem ist die Systemarchitektur so konzipiert, dass keine Teilchen freigesetzt werden – dadurch müssen Sie sich nicht mit der Aufrechterhaltung eines sauberen Umfelds nach Klasse 1–100 herumschlagen.&lt;/p&gt;</description>
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