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		<title>(NIR) on Focused IR Heating Beams</title>
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				<title>Nahe infrarot Trockner für Wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Nahe infrarot Trockner für Wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der 300-mm-Linie ist das Trocknen des Fotolacks keine gewöhnliche thermische Behandlung – es handelt sich dabei um einen entscheidenden Faktor für die Genauigkeit der Prozesse. Selbst kleine Abweichungen von ±0,1 °C können dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen unmöglich wird. Herkömmliche Heizplatten führen zu Unregelmäßigkeiten an den Rändern der Wafer, während konventionelle Öfen zur Verunreinigung der Wafer durch Luftpartikel führen. In einer Reinraumklasse 1–100 kosten Partikelbildung sowie unplanmäßige Stillstände nicht nur Minuten – sie kosten ganze Produktchargen.&lt;/p&gt;</description>
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