Präziser Infrarot Sensor für Wafer

Tue, 14 Jul 2026 10:48:44 +0800

Hören Sie auf, Energie an die Wände der Geräte zu verschwenden

Das Erhitzen eines Siliziumwafers erfordert eine Menge Energie. Das Problem: Die meisten herkömmlichen IR-Systeme strahlen diese Energie überallhin ab. Ein großer Teil der Energie landet dabei an den Innenwänden der Geräte statt auf dem Wafer selbst.
Im Grunde wird das Gehäuse des Geräts zu einer Art „Riesenkühler“. Dadurch werden die Außenwände des Geräts so heiß, dass sie Verbrennungen verursachen können. Zudem müssen die Kühlsysteme viel härter arbeiten als nötig. Das ist einfach nur verschwenderisch.

Präzision on Focused IR Heating Beams

Präziser Infrarot Sensor für Wafer

Hören Sie auf, Energie an die Wände der Geräte zu verschwenden