Verwendung von Richtungsabhängiger Infrarotbeheizung zur Verhinderung der Überhitzung von Schränken in Halbleiter Reinigungssystemen

Mon, 07 Sep 2026 14:47:45 +0800

Die Wärmeabstrahlung in den Reinigungsprozessen für Halbleiter stoppen Wer schon einmal mit den Reinigungsprozessen für Halbleiter zu tun hatte, kennt die Probleme. Man versucht, den Wafer bei einer präzisen Temperatur zu halten – doch gleichzeitig wird der Innenraum der Maschine zu einer Art Ofen. Herkömmliche Infrarotlampen strahlen Wärme überallhin ab. Das ist problematisch: Man verschwendet viel Energie, und das Gehäuse der Maschine wird so heiß, dass es eine echte Sicherheitsgefahr darstellt. Wir sind auf eine bessere Lösung gekommen:gerichtete Infrarotstrahlung. Die Wärme genau dorthin lenken, wo sie benötigt wird Bei gerichteter Heizung wird die Wärme nicht in die Wände des Gehäuses geleitet, sondern direkt auf die zu erwärmende Oberfläche. Das ist eine große Erleichterung: Man erhält die gewünschte Wärmestärke am Wafer – während das Gehäuse nicht zu einem „riesigen Radiator“ wird. Die Energie wird somit für die eigentliche Arbeit genutzt, nicht dazu, den Raum zu erhitzen. Umgang mit feuchten Bedingungen Reinigungsprozesse finden in feuchten Umgebungen statt – das ist ein Problem für herkömmliche Lampen. Wenn man eine normale Lampe dort verwendet, kann sie durch die thermische Belastung sofort kaputtgehen. Wir haben dieses Problem mit Quarzkapseln sowie speziellen wasserdichten Dichtungen gelöst. Dadurch werden die Elektroden fest verschlossen, sodass keine Flüssigkeit eindringen kann. Dadurch halten die Lampen auch während intensiver Reinigungszyklen stand. Die schwierigen Aspekte – und wie man damit umgeht Es gibt zwar ein Gegenargument: Da der Strahl so gezielt ist, ist die Wärmestärke am Fokuspunkt sehr hoch. Man muss daher vorsichtig mit den PID-Reglern umgehen. Wenn diese nicht richtig eingestellt sind, wird die Zieltemperatur überschritten. Zudem muss man auf die Abstände zwischen den Komponenten achten – schon kleine Abweichungen können dazu führen, dass die Erwärmung des Wafers ungleichmäßig wird. Es handelt sich dabei um eine knifflige Situation – aber es lohnt sich. Außerdem wird Ihr HVAC-System dankbar sein. Da man nicht gegen die eigene Temperaturregulierung der Maschine ankämpfen muss, bleibt das gesamte System kühler. Das ist sicherer für die Mitarbeiter, und die internen Komponenten verbrennen auch nicht nach Zeit. Verbinden Sie einfach die Lampe mit einem speziellen Controller, um die erforderlichen Toleranzen einzuhalten – dann funktioniert alles problemlos.

Richtungsabhängige Heizung on Gezielte IR-Heizung Strahlen

Verwendung von Richtungsabhängiger Infrarotbeheizung zur Verhinderung der Überhitzung von Schränken in Halbleiter Reinigungssystemen