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		<title>Sicherheit on Focused IR Heating Beams</title>
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		<description>Recent content in Sicherheit on Focused IR Heating Beams</description>
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				<title>Sicherheitsabstand bei der Wafererhitzung</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Sicherheitsabstand bei der Wafererhitzung&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Lithografie-Bodenfläche stellt die Sicherheitsentfernung um das Wafer herum keine „Komfortzone“ dar – es handelt sich &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;dabei&lt;/a&gt; vielmehr um eine klare Prozessgrenze. Wenn man zu nahe kommt, entstehen Probleme wie thermische Störungen, Verformungen des Resistprofils sowie Unregelmäßigkeiten in der Struktur des Wafers. Wenn man hingegen zu weit zurückweicht, reicht die Heizleistung nicht aus – dadurch verschlechtert sich die Homogenität des CD-Werts erheblich. Wir haben unsere Heizplattform so konstruiert, dass diese Entfernung genau eingehalten wird, damit die thermischen Bedingungen innerhalb der zulässigen Grenzen bleiben.&lt;/p&gt;</description>
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