Trockner on Focused IR Heating Beams

Controller für digitale Infrarot Trockner

Mon, 20 Jul 2026 11:41:13 +0800

Verhindern Sie Bruchstücke: Halten Sie Ihre Wafer sauber und Ihre Trockner sicher
Wenn Ihnen bereits einmal eine Infrarotlampe mitten in einem hochintensiven Produktionsprozess geplatzt ist, wissen Sie, wie schlimm das sein kann. Einen Moment lang ist alles in Ordnung – im nächsten Moment regnen Quarzkristalle und metallische Fäden auf die Substrate herab. Das ist eine echte Katastrophe. Man verliert nicht nur ein Wafer – es kommt auch zu sekundären Kontaminationen, die ganze Produktchargen zerstören können. Wir haben viel Zeit investiert, um herauszufinden, wie man diese Fehlerkette bereits im Vorfeld verhindern kann.

Nahe infrarot Trockner für Wafer

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

In der 300-mm-Linie ist das Trocknen des Fotolacks keine gewöhnliche thermische Behandlung – es handelt sich dabei um einen entscheidenden Faktor für die Genauigkeit der Prozesse. Selbst kleine Abweichungen von ±0,1 °C können dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen unmöglich wird. Herkömmliche Heizplatten führen zu Unregelmäßigkeiten an den Rändern der Wafer, während konventionelle Öfen zur Verunreinigung der Wafer durch Luftpartikel führen. In einer Reinraumklasse 1–100 kosten Partikelbildung sowie unplanmäßige Stillstände nicht nur Minuten – sie kosten ganze Produktchargen.

DNS (Bildschirm) Wafer Trocknerlampe

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Auf der Lithografiebühne ist eine Drift von 1 °C beim Softbake oder Hardbake kein „kleiner Fehler“. Es ist ein Ertragseinbruch, ganz einfach. Sie beobachten, wie Wafer die Bahn mit Kantenbead, Linienbreitenstreuung oder Lösungsmittel verlassen, das sich nie vollständig verflüchtigt hat - Rückstände, die später als Defekt auftreten. Was Sie brauchen, ist eine Wärmequelle, die den gesamten Wafer als einen thermischen Körper behandelt, nicht als Flickenteppich aus heißen und kalten Stellen.

Infrarot-Präzision: Sub-Millimeter-Einheitlichkeit, wiederholbar

Die DNS-Screen-Wafer-Trocknerlampe basiert auf kontrollierter Nahinfrarot-(NIR)-Heizung, die darauf abgestimmt ist, ein sub-millimeter gleichmäßiges thermisches Feld über die Waferfläche bereitzustellen. In der Praxis bedeutet das eine konsistente Temperatur des Fotolacks vom Zentrum bis zum Rand, sodass das Softbake Lösungsmittel gleichmäßig entfernt und das Hardbake das Resistprofil fixiert - ohne Nachfließen oder Schaumigkeit.
Das System hält die Wiederholbarkeit von Charge zu Charge und von Schicht zu Schicht, sodass Ihre kritischen Dimensionen (CD) nicht wandern, wenn sich die Umgebungsbedingungen ändern. Die Lampenleistung bleibt über lange Einsätze stabil, und das Design minimiert die Partikelerzeugung auf nahezu null - genau das, was Sie benötigen, wenn Sie in Reinräumen der Klasse 1–100 arbeiten.