MEMS Wafer Trocknungsheizung

Sun, 07 Jun 2026 03:57:07 +0800

Zurück in der Linie verlässt ein nasses MEMS-Wafer die Reinigung und steht wartend bereit. Die nächste Station – Fotoresist-Beschichtung, Softbake und ein sauberes Trocknen – akzeptiert keine thermischen Driftwerte. Bereits eine 1°C heiße Stelle auf der Oberfläche verwandelt die Linienbreitenkontrolle in ein Glücksspiel. Wir haben diesen MEMS-Wafer-Trocknungsheizer entwickelt, um diese Unsicherheit bereits im Vorfeld zu eliminieren, bevor sie in den Lithographie-Prozess gelangt.

Was unter der Haube zählt
Das Design ist auf eine Gleichmäßigkeit von ±0,1°C im stabilen Zustand über die Wafer-Ebene ausgelegt. Fotoresist reagiert empfindlich genug, sodass jede Temperaturdifferenz direkt das Produktergebnis gefährdet. Das Heizelement verwendet kurzwellige Infrarotstrahlung, die Energie in schnellen, kontaktlosen Impulsen abgibt, wodurch thermische Verzögerungen und Temperaturschwankungen beim Kaltstart gering bleiben. Quarz und reinraumkompatible Materialien sorgen für nahezu keine Partikelentwicklung, was für den Betrieb in Reinheitsklassen 1–100 geeignet ist. Die Wiederholgenauigkeit ist gesichert, sodass das gleiche thermische Budget von Zyklus zu Zyklus ohne Backprofil-Drift zwischen Chargen eingehalten wird.

Trocknung on Focused IR Heating Beams

MEMS Wafer Trocknungsheizung