Vakuum on Focused IR Heating Beams

Infrarotheizer für Vakuumkammern

Thu, 16 Jul 2026 02:37:37 +0800

Hören Sie auf, die Wände der Vakuumkammer zu erhitzen!
Wenn man versucht, eine Wafer oder ein Substrat in einem Vakuum zu erhitzen, möchte man, dass die Energie dort hinkommt – nämlich zum zu behandelnden Objekt. Doch das ist nicht immer möglich. Die meisten Systeme leiden unter dem Phänomen des „Hitzeaufbaus“. Anstatt das Ziel zu erreichen, wird die Infrarotstrahlung einfach in alle Richtungen abgelenkt und sammelt sich dabei an den Wänden der Kammer. Das ist nicht nur eine Verschwendung von Energie, sondern macht außerdem die Außenflächen der Geräte extrem heiß. Niemand möchte ein Gerät haben, das einen verbrüht, sobald man es berührt.

Vakuumkompatibler Infrarotheizer

Sun, 12 Jul 2026 10:02:57 +0800

Korrekte Wärmezufuhr in Vakuum-IR-Systemen
Beim Herstellen von Halbleitern ist eine enorme Menge an Wärme erforderlich – doch man darf auf keinen Fall zulassen, dass die Wafer durch Verunreinigungen beschädigt werden. Herkömmliche resistive Heizungen eignen sich dafür nicht. Deshalb nutzen wir vakuumkompatible Infrarotlampen. Anstelle eines Mediums, das die Wärme überträgt, strahlen diese Lampen die Energie direkt auf das Zielobjekt ab. Das ist eine effektivere Methode. Zudem ist das einerseits vorteilhaft für alle, die eine „grüne Fabrik“ betreiben wollen – schließlich wird keine Energie mehr für unnötige Zwecke verschwendet.