Heizgerät für Reinraumwagen in der Halbleiterindustrie

Wed, 01 Jul 2026 13:04:39 +0800

Bei der Trocknung des Fotolacks reicht bereits eine Abweichung von einem halben Grad aus, damit die kritischen Abmessungen nicht mehr den Spezifikationen entsprechen. Eine langsame Erhitzung des Wafers verlängert die Bearbeitungszeit und erhöht das Risiko einer Oberflächenkontamination. Deshalb haben wir den Heizgerät für die Reinraumbereiche entwickelt – um die Schwankungen im Prozess zu reduzieren.

Was wir dabei berücksichtigt haben
Wir haben den Heizgerät so konzipiert, dass er innerhalb der thermischen Anforderungen der Halbleiterproduktion funktioniert. Auf der Wafertray wird eine Temperaturhomogenität von ±0,1°C gewährleistet. Die Genauigkeit wird durch einen kalibrierten Regelkreis erreicht, der das Zielwert exakt einhält. Der Heizelement ist ein Kurzwelliges Infrarotheizelement – dadurch erfolgt eine schnelle Reaktion und die Energieverteilung bleibt gleichmäßig. Der Gehäuse ist für Reinraumbedingungen geeignet: dichte Verbindungen, keine Partikelfreisetzung – ideal für Umgebungen der Klassen 1–100. Leistung, Spannung und Abmessungen entsprechen denen herkömmlicher Prozesswagen – somit entsteht kein Integrationsproblem.

Wagen on Focused IR Heating Beams

Heizgerät für Reinraumwagen in der Halbleiterindustrie