Trocknungslampe für Deep UV (DUV) Resiststoffe

Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800

Auf der Lithografie-Ebene lernt man schnell: Ein leichter oder starker Trocknungsprozess kann zu unerwarteten Problemen führen. Schon eine Abweichung von einem halben Grad kann dazu führen, dass die kritischen Abmessungen nicht mehr eingehalten werden können. Zudem kann ein Anstieg der Teilchenkonzentration dazu führen, dass ein guter Wafer plötzlich als Schrott gilt. Die DUV-Resist-Trocknungsanlage hilft dabei, solche Unwägbarkeiten auszuschließen.

Was wirklich wichtig ist: Es geht darum, eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf der Wafer-Oberfläche zu gewährleisten – innerhalb von ±0,1°C. So trocknet die gesamte Oberfläche des Photoresists auf dieselbe Weise, egal welche Charge es ist. Die kurzwellige Strahlung sowie das auf Quarz optimierte Design sorgen für eine schnelle und kontrollierte Erhitzung – ohne Hotspots. Zudem ist die Systemarchitektur so konzipiert, dass keine Teilchen freigesetzt werden – dadurch müssen Sie sich nicht mit der Aufrechterhaltung eines sauberen Umfelds nach Klasse 1–100 herumschlagen.

Heizgerät zum Laminieren von Trockenfilmrésistenzen

Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800

Im Bereich der Lithografie fungiert die Heizung zum Laminieren nicht nur dazu, Wärme zuzuführen. Sie bestimmt vielmehr den thermischen Zustand des gesamten Photoresist-Profilings. Eine Abweichung von 0,5 °C während des Weichbrennvorgangs kann zu Problemen bezüglich der Viskosität des Materials sowie der Kontrolle der kritischen Abmessungen führen. Wenn für die Verarbeitung eine Homogenität von ≤±0,1 °C über der gesamten Oberfläche des Substrats erforderlich ist, dann ist diese Heizung kein bloßes Zubehör – sie ist vielmehr das entscheidende Element für einen reibungslosen Prozessablauf.

Widerstehen on Focused IR Heating Beams

Trocknungslampe für Deep UV (DUV) Resiststoffe

Heizgerät zum Laminieren von Trockenfilmrésistenzen