http://ir-heat-beam.com/es/tags/seguridad/ Recent content in Seguridad on Focused IR Heating Beams Hugo es Sat, 20 Jun 2026 06:00:47 +0800 http://ir-heat-beam.com/es/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Sat, 20 Jun 2026 06:00:47 +0800 http://ir-heat-beam.com/es/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Distancia de seguridad para el calentamiento de la oblea"></p> <p>En la sala de litografía, esa distancia de seguridad alrededor de los wafers no es realmente una “zona de confort”. Se trata de un límite estricto que debe respetarse. Si uno se acerca demasiado, se generan problemas como interferencias térmicas, distorsión en el perfil del resistente y desviaciones en las partículas. Por otro lado, si uno se aleja demasiado, el proceso de calentamiento no es suficiente para lograr la uniformidad deseada; la uniformidad del CD se desvía de los parámetros establecidos. Hemos diseñado nuestra plataforma de calentamiento para mantener esa distancia exacta, de modo que el presupuesto térmico permanezca dentro de los límites aceptables para el fotorevestimiento.</p>