<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(صفحه) on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/fa/tags/%D8%B5%D9%81%D8%AD%D9%87/</link>
		<description>Recent content in (صفحه) on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/fa/tags/%D8%B5%D9%81%D8%AD%D9%87/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ خشککن ویفر DNS (صفحه)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/fa/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/fa/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;لامپ خشککن ویفر DNS (صفحه)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در طبقه لیتوگرافی، یک تغییر دما به اندازه ۱ درجه سانتی‌گراد در پخت نرم یا پخت سخت یک «اشتباه کوچک» نیست. این یک ضربه به بهره‌وری است، ساده و واضح. شما مشاهده می‌کنید که ویفرها با لبه‌های اضافی، پخش عرض خط یا حلالی که هرگز به‌طور کامل پاک نشده است از خط تولید خارج می‌شوند—باقیمانده‌ای که بعداً به‌عنوان یک نقص ظاهر می‌شود. آنچه شما نیاز دارید، یک منبع حرارتی است که کل ویفر را به‌عنوان یک جسم حرارتی واحد درمان کند، نه یک پچ‌کار از نقاط گرم و سرد.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
