<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bake on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/fa/tags/bake/</link>
		<description>Recent content in Bake on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/fa/tags/bake/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ پخت مقاومت نور فرابنفش عمیق (DUV)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/fa/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/fa/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;لامپ پخت مقاومت نور فرابنفش عمیق (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، یادگیری سریع اهمیت زیادی دارد؛ حتی کمترین تغییر در پروفایل گرمایشی می‌تواند منجر به کاهش کیفیت تولید شود. حتی نیم درجه تغییر در دما می‌تواند باعث اختلال در ابعاد مهم ورقه‌های سیلیکونی شود؛ همچنین وجود ذرات ناخواسته می‌تواند باعث تبدیل یک ورقه سالم به زباله شود. لامپ‌های گرمایشی DUV، این مشکلات را کاهش می‌دهند.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;آنچه اهمیت دارد&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ما درباره یکنواختی حرارتی در سطح ورقه‌های سیلیکونی صحبت می‌کنیم؛ یعنی اینکه کل سطح رزیست فتوگرافی به یک شکل پخته شود. خروجی موج کوتاه و طراحی بهینه لامپ، باعث گرم شدن سریع و کنترل‌شده سطح ورقه‌های سیلیکونی می‌شود، بدون ایجاد نقاط گرم. همچنین، سیستم از نظر فنی بسیار خوب عمل می‌کند؛ یعنی هیچ ذره‌ای تولید نمی‌شود، بنابراین نیازی به نگهداری محیط تولید در سطح کلاس ۱ تا ۱۰۰ نیست.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
