http://ir-heat-beam.com/fa/tags/resist/ Recent content in Resist on Focused IR Heating Beams Hugo fa Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800 http://ir-heat-beam.com/fa/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 05:13:33 +0800 http://ir-heat-beam.com/fa/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="لامپ پخت مقاومت نور فرابنفش عمیق (DUV)"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، یادگیری سریع اهمیت زیادی دارد؛ حتی کمترین تغییر در پروفایل گرمایشی می‌تواند منجر به کاهش کیفیت تولید شود. حتی نیم درجه تغییر در دما می‌تواند باعث اختلال در ابعاد مهم ورقه‌های سیلیکونی شود؛ همچنین وجود ذرات ناخواسته می‌تواند باعث تبدیل یک ورقه سالم به زباله شود. لامپ‌های گرمایشی DUV، این مشکلات را کاهش می‌دهند.</p> <p><strong>آنچه اهمیت دارد</strong><br> ما درباره یکنواختی حرارتی در سطح ورقه‌های سیلیکونی صحبت می‌کنیم؛ یعنی اینکه کل سطح رزیست فتوگرافی به یک شکل پخته شود. خروجی موج کوتاه و طراحی بهینه لامپ، باعث گرم شدن سریع و کنترل‌شده سطح ورقه‌های سیلیکونی می‌شود، بدون ایجاد نقاط گرم. همچنین، سیستم از نظر فنی بسیار خوب عمل می‌کند؛ یعنی هیچ ذره‌ای تولید نمی‌شود، بنابراین نیازی به نگهداری محیط تولید در سطح کلاس ۱ تا ۱۰۰ نیست.</p> http://ir-heat-beam.com/fa/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800 http://ir-heat-beam.com/fa/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="گرمکن لمینهکردن رزیست فیلم خشک"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، هیتر مورد استفاده برای لمینه‌سازی، تنها وظیفه ایجاد گرما را ندارد؛ بلکه مسئول تعیین میزان گرمای مناسب برای کل سطح فیلم حساس است. اگر در حین فرآیند پخت، تغییر دما ۰.۵ درجه سانتی‌گراد باشد، این امر می‌تواند بر ویسکوزیته فیلم، شکل لبه‌های آن و کنترل ابعاد آن تأثیر منفی داشته باشد. وقتی که الزامات فرآیند، یکنواختی دما در حدود ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد در سراسر سطح زیرلایه است، هیتر مورد استفاده برای لمینه‌سازی، صرفاً یک جزء فرعی نیست؛ بلکه نقطه کلیدی برای کنترل فرآیند محسوب می‌شود.</p>