
Sur le poste de lithographie, un décalage de demi-degré dans la température de séchage peut entraîner des variations de quelques nanomètres dans les dimensions critiques du produit fini. Il ne s’agit pas simplement de chaleur, mais bien d’un contrôle précis et rigoureux.
Les lampes traditionnelles génèrent de l’ozone, ce qui modifie l’adhérence du photorésistant et affecte négativement le nombre de particules présentes. Nous utilisons donc des lampes infrarouges sans ozone, ce qui permet de maintenir une température constante, sans surprises.
Ce qui est important en réalité Nous utilisons des émetteurs infrarouges à ondes courtes, avec une réponse rapide, afin de garantir une sortie stable en quelques secondes à peine. Dans toute la zone de séchage, l’uniformité de température reste entre ±0,1°C, et la reproductibilité d’un cycle à l’autre est constante.
L’enveloppe en quartz ainsi que les matériaux utilisés sont conçus pour des environnements de classe 1–100. Aucune émission de gaz ni aucun problème lié aux particules ne se produit lorsque les lampes sont en fonctionnement. La densité d’énergie est ajustée en fonction des caractéristiques du photorésistant, et la spectre d’émission correspond à la courbe d’absorption des photorésists courants – moins de retards thermiques, moins d’effets aux bords.
Pourquoi c’est utile dans le traitement du photorésistant Le séchage doux vise à éliminer les solvants et à stabiliser la tension du film. Le séchage intense, quant à lui, permet de stabiliser l’image avant l’usinage. Avec des lampes infrarouges sans ozone, on peut maintenir un contrôle précis de la largeur des lignes, réduire les défauts et diminuer les travaux de révision.
Le système fonctionne 24/7 avec une sortie stable. De plus, on consomme moins d’énergie que avec des systèmes de convection, car la chaleur est directement transmise au film, et non à la chambre. La productivité augmente sans sacrifier le taux de réussite des processus. La durée de vie des lampes permet des opérations prolongées, avec des intervalles de maintenance prévisibles.
Les aspects pratiques La lumière émise par les lampes se propage en ligne droite, il est donc nécessaire que la géométrie d’intégration garantisse que le faisceau soit aligné avec le parcours du wafer. Utilisez des éléments réfléchissants pour éviter que la chaleur ne touche les optiques voisines.
Après que l’appareil est resté inactif, il faut un court temps d’échauffement pour atteindre l’équilibre thermique. Planifiez vos procédures de séchage en tenant compte de ce temps d’échauffement. La compatibilité avec les équipements existants est simple, mais il est nécessaire de vérifier les espacements mécaniques et les connexions électriques avec l’équipe chargée de l’équipement.