Lampe de séchage de wafer DNS (écran)

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Sur le sol de lithographie, un dérive de 1°C dans le soft bake ou le hard bake n’est pas une « petite erreur ». C’est une perte de rendement, tout simplement. Vous observez les wafers quitter la piste avec un bord surélevé, une variation de largeur de ligne ou un solvant qui ne s’est jamais complètement évaporé—un résidu qui se manifeste plus tard comme un défaut. Ce dont vous avez besoin, c’est d’une source de chaleur qui traite l’ensemble du wafer comme un seul corps thermique, et non comme un patchwork de points chauds et froids.

DNS on Focused IR Heating Beams

Lampe de séchage de wafer DNS (écran)