Lampe de cuisson pour résine UV profond (DUV)

Fri, 26 Jun 2026 05:13:32 +0800

Sur le poste de lithographie, on apprend rapidement : un profil de chauffage insuffisant ou trop intense peut entraîner des problèmes que l’on ne peut pas prévoir. Une déviation de même que demi-degré peut faire dévier les dimensions critiques du wafer de la valeur souhaitée. De plus, la présence de particules peut transformer un wafer de bonne qualité en matière inutilisable en un rien de temps. La lampe de cuisson pour résistant UV permet d’éliminer cette incertitude liée à l’étape de chauffage.

Chauffage pour la stratification du réticulant en film sec

Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800

Dans le domaine de la lithographie, le chauffage utilisé pour la stratification du film résistant n’a pas seulement pour fonction d’apporter de la chaleur. Il définit également le régime thermique nécessaire pour tout le profil du film résistant. Une déviation de 0,5 °C pendant le processus de séchage peut avoir des conséquences graves sur la viscosité du film, sur la qualité des bords du film, ainsi que sur le contrôle des dimensions critiques. Lorsque les exigences sont de maintenir une uniformité de température de ≤±0,1 °C sur toute la surface du substrat, ce chauffage n’est pas un simple accessoire : c’est plutôt un élément essentiel pour assurer le bon déroulement du processus.

Résister on Focused IR Heating Beams

Lampe de cuisson pour résine UV profond (DUV)

Chauffage pour la stratification du réticulant en film sec