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		<title>Sécurité on Focused IR Heating Beams</title>
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		<description>Recent content in Sécurité on Focused IR Heating Beams</description>
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				<title>Distance de sécurité pour le chauffage de la wafer</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/fr/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:00:48 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Distance de sécurité pour le chauffage de la wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le poste de lithographie, cette distance de sécurité autour de la piste de chauffage n’est pas une zone de confort. C’est plutôt une limite stricte à respecter. Si l’on s’approche trop près, on risque des interférences thermiques, une déformation du profil du résistant, ainsi que des problèmes liés aux particules présentes dans l’atmosphère. En revanche, si l’on s’éloigne trop, le processus de chauffage n’aura pas assez d’efficacité : l’uniformité de la largeur des lignes deviendra instable et ne correspondra plus aux spécifications requises. Nous avons conçu &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;notre&lt;/a&gt; plateforme de chauffage pour maintenir cette distance avec précision, afin que le budget &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;thermique&lt;/a&gt; reste dans les limites admises par le résistant.&lt;/p&gt;</description>
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