http://ir-heat-beam.com/he/tags/%D7%99%D7%91%D7%A9/ Recent content in יבש on Focused IR Heating Beams Hugo he Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800 http://ir-heat-beam.com/he/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800 http://ir-heat-beam.com/he/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="מחמם ללימינציה של חומרי הגנה בצורת סרט יבש"></p> <p>בתהליך הליתוגרפיה, מכשיר החימום אינו יוצר רק חום – הוא גם קובע את הערך התרמי הנדרש לכל שכבת הפוטורזיסט. אם יש שינוי של 0.5°C במהלך תהליך החימום, זה יפגע באיכות השכבה, באיכות השוליים שלה ובשליטה בממדים החשובים שלה. כאשר הדרישה היא אחידות של ≤±0.1°C בכל שטח החומר, מכשיר החימום אינו רק אביזר נוסף – הוא הבסיס לכל התהליך.</p> <p>מה שאנו עושים הוא פשוט: אנו משתמשים במערכת חימום באמצעות קרינה אינפרא-אדומה בגלים קצרים, המתאימה לחדרים נקיים. מערכת זו מאפשרת תגובה תרמית מהירה, ללא פליטת חלקיקים. מערכת הבקרה שומרת על אחידות של ±0.1°C בכל שטח החומר. חלקי המכשיר עשויים מפלדה неר<a href="https://goldisgood.com">dzhtna</a>, ומערכת הפינוי של האדים מבוססת על טכנולוגיית HEPA – כך שמספר החלקיקים נשאר ברמה נמוכה בסביבות מסוג Class 1–100. החזריות של התהליך נובעת מהעובדה שניתן לשמור על פרופיל תרמי קבוע, ולהשתמש בו שוב ושוב.</p>