מנורת אפייה לחומרי עמידות באור על סגול עמוק (DUV)

Fri, 26 Jun 2026 05:13:36 +0800

בתהליך הליתוגרפיה, לומדים מהר מאוד: ערכי חימום לא יציבים, אפילו במעט, עלולים לגרום לבעיות שלא ניתן לחזות אותן. שינוי של חצי מעלה בערך החימום עלול לגרום לסטייה מהערכים הרצויים, וקיומם של חלקיקים עלול להפוך וואף טוב לחומר חסר תועלת. מנורת החימום של DUV מסייעת להימנע מהצורך בהערכות תרמיות.

מה חשוב באמת? אנו מדברים על אחידות תרמית ברמת הוואף – בטווח של ±0.1°C. כך, כל שטח הפוטורזיסט מתייבש באופן אחיד, בכל סדרת ייצור. הפלט הקצר-גלי והעיצוב המושלם של הקוורץ מאפשרים חימום מהיר ומבוקר, ללא נקודות חמות. בנוסף, הארכיטקטורה של המערכת מבטיחה שאין פליטת חלקיקים, כך שאין צורך להתמודד עם בעיות של רמת חלקיקים ברמה 1–100.

מחמם ללימינציה של חומרי הגנה בצורת סרט יבש

Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800

בתהליך הליתוגרפיה, מכשיר החימום אינו יוצר רק חום – הוא גם קובע את הערך התרמי הנדרש לכל שכבת הפוטורזיסט. אם יש שינוי של 0.5°C במהלך תהליך החימום, זה יפגע באיכות השכבה, באיכות השוליים שלה ובשליטה בממדים החשובים שלה. כאשר הדרישה היא אחידות של ≤±0.1°C בכל שטח החומר, מכשיר החימום אינו רק אביזר נוסף – הוא הבסיס לכל התהליך.

מה שאנו עושים הוא פשוט: אנו משתמשים במערכת חימום באמצעות קרינה אינפרא-אדומה בגלים קצרים, המתאימה לחדרים נקיים. מערכת זו מאפשרת תגובה תרמית מהירה, ללא פליטת חלקיקים. מערכת הבקרה שומרת על אחידות של ±0.1°C בכל שטח החומר. חלקי המכשיר עשויים מפלדה неרdzhtna, ומערכת הפינוי של האדים מבוססת על טכנולוגיית HEPA – כך שמספר החלקיקים נשאר ברמה נמוכה בסביבות מסוג Class 1–100. החזריות של התהליך נובעת מהעובדה שניתן לשמור על פרופיל תרמי קבוע, ולהשתמש בו שוב ושוב.

Resist on Focused IR Heating Beams

מנורת אפייה לחומרי עמידות באור על סגול עמוק (DUV)

מחמם ללימינציה של חומרי הגנה בצורת סרט יבש