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		<title>धो दें। on Focused IR Heating Beams</title>
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				<title>धोने हेतु वॉटरप्रूफ इन्फ्रारेड लैंप</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/hi/posts/reducing-equipment-wall-temperature-in-semiconductor-rinse-stages-via-directional-infrared-heating/</link>
				<pubDate>Fri, 24 Jul 2026 11:55:01 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;धोने हेतु वॉटरप्रूफ इन्फ्रारेड लैंप&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;सेमीकंडक्टर रिन्सिंग प्रक्रिया में “हॉट वॉल” समस्या को रोकना&lt;br&gt;&#xA;यदि आपने सेमीकंडक्टर वेट प्रोसेसिंग में काम किया है, तो आपको इस समस्या का अहसास होगा। रिन्सिंग प्रक्रिया के दौरान वेफर को गर्म करना आवश्यक है, लेकिन ऐसा करते समय उपकरणों का आवरण बहुत गर्म नहीं होना चाहिए।&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;पारंपरिक रेडिएंट हीटर, वास्तव में बल्बों की तरह ही होते हैं… वे ऊष्मा को हर दिशा में फैला देते हैं। इस कारण उपकरणों की आंतरिक दीवारें बहुत गर्म हो जाती हैं। यह ऊर्जा की बर्बादी है… और वास्तव में, यह मशीन के आसपास काम करने वाले लोगों के लिए एक बड़ा खतरा है।&lt;/p&gt;</description>
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