Pemanas untuk pelapisan lapisan resisten film kering
Di lantai proses litografi, pemanas yang digunakan untuk proses pelapisan bukan sekadar alat untuk menghasilkan panas saja. Alat ini juga berperan...
Jarak keamanan untuk pemanasan wafer
Di area litografi tersebut, jarak aman yang diperlukan di sekitar wafer selama proses pemanasan bukanlah semacam “zona nyaman”. Sebaliknya, itu...
Pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR)
Pada proses produksi dengan panjang gelombang 300 mm, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah termal biasa. Proses ini sangat...
Lampu halogen untuk sistem RTP
Di lantai pabrik, drift termal dalam pemrosesan termal cepat menggerogoti anggaran termal, dan profil photoresist mulai runtuh. Uniformitas tingkat...
Bola lampu pemanas inframerah respons cepat
Pada lini 300mm, soft bake selama 15 detik yang mengalami drift sebesar 2°C akan terlihat sebagai deviasi lebar garis pada resist. Anda hanya...
Pemanas pengering wafer MEMS
Back on the line, wafer MEMS basah keluar dari proses pembersihan dan menunggu. Tahapan selanjutnya—lapisan photoresist, soft bake, dan pengeringan...
Lampu pengering wafer DNS (Screen)
Di lantai litografi, pergeseran 1°C dalam soft bake atau hard bake bukanlah “kesalahan kecil.” Itu adalah dampak terhadap hasil, jelas...