<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dalam on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/id/tags/dalam/</link>
		<description>Recent content in Dalam on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:34 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/id/tags/dalam/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk bahan resist jenis Deep UV (DUV)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/id/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:13:34 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/id/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk bahan resist jenis Deep UV (DUV)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, seseorang akan belajar dengan cepat: penyimpangan kecil saja dalam proses pemanasan fotoresist dapat berdampak negatif pada kualitas wafer yang dihasilkan. Penyimpangan sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk membuat dimensi kritis wafer tidak sesuai standar yang ditetapkan. Adanya partikel-partikel kecil juga dapat mengubah wafer yang berkualitas menjadi sampah, tanpa kita sadari. Lampu pemanas DUV digunakan untuk menghilangkan faktor ketidakpastian dalam proses pemanasan tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting dalam proses ini adalah keseragaman suhu pada tingkat wafer, yaitu dalam rentang ±0,1°C. Dengan demikian, seluruh permukaan fotoresist akan mengering secara merata, dari satu batch ke batch berikutnya. Output cahaya frekuensi tinggi serta desain lampu yang optimal memungkinkan proses pemanasan berlangsung dengan cepat dan terkendali, tanpa adanya titik panas. Selain itu, sistem ini bekerja dengan efisien—tanpa emisi partikel sama sekali, sehingga tidak perlu repot mempertahankan kadar partikel di ruang kerja yang memenuhi standar Class 1–100.&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
