Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Di lantai litografi, pergeseran 1°C dalam soft bake atau hard bake bukanlah “kesalahan kecil.” Itu adalah dampak terhadap hasil, jelas dan sederhana. Anda melihat wafer keluar dari jalur dengan edge bead, penyebaran garis, atau pelarut yang tidak pernah sepenuhnya hilang—sisa yang muncul kemudian sebagai cacat. Apa yang Anda butuhkan adalah sumber panas yang memperlakukan seluruh wafer sebagai satu tubuh termal, bukan kumpulan titik panas dan dingin.

Presisi Inframerah: Uniformitas sub-millimeter, dapat diulang

Lampu pengering wafer DNS dibangun di sekitar pemanasan near-infrared (NIR) yang terkontrol, disetel untuk memberikan bidang termal yang seragam sub-millimeter di seluruh bidang wafer. Dalam praktiknya, itu berarti suhu photoresist yang konsisten dari pusat hingga tepi, sehingga soft bake menghilangkan pelarut secara merata dan hard bake mengunci profil resist—tanpa reflow atau scumming. Sistem ini mempertahankan repetibilitas dari lot ke lot dan shift ke shift, sehingga kinerja dimensi kritis (CD) Anda tidak menyimpang saat kondisi lingkungan berubah. Output lampu tetap stabil selama operasi panjang, dan desainnya menjaga generasi partikel mendekati nol—persis apa yang Anda butuhkan saat beroperasi di cleanroom Kelas 1–100.

DNS on Focused IR Heating Beams

Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Presisi Inframerah: Uniformitas sub-millimeter, dapat diulang