http://ir-heat-beam.com/id/tags/melawan-menolak/ Recent content in Melawan; Menolak on Focused IR Heating Beams Hugo id Fri, 26 Jun 2026 05:13:34 +0800 http://ir-heat-beam.com/id/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 05:13:34 +0800 http://ir-heat-beam.com/id/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampu pemanas untuk bahan resist jenis Deep UV (DUV)"></p> <p>Di area litografi, seseorang akan belajar dengan cepat: penyimpangan kecil saja dalam proses pemanasan fotoresist dapat berdampak negatif pada kualitas wafer yang dihasilkan. Penyimpangan sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk membuat dimensi kritis wafer tidak sesuai standar yang ditetapkan. Adanya partikel-partikel kecil juga dapat mengubah wafer yang berkualitas menjadi sampah, tanpa kita sadari. Lampu pemanas DUV digunakan untuk menghilangkan faktor ketidakpastian dalam proses pemanasan tersebut.</p> <p><strong>Yang penting dalam proses ini adalah keseragaman suhu pada tingkat wafer, yaitu dalam rentang ±0,1°C. Dengan demikian, seluruh permukaan fotoresist akan mengering secara merata, dari satu batch ke batch berikutnya. Output cahaya frekuensi tinggi serta desain lampu yang optimal memungkinkan proses pemanasan berlangsung dengan cepat dan terkendali, tanpa adanya titik panas. Selain itu, sistem ini bekerja dengan efisien—tanpa emisi partikel sama sekali, sehingga tidak perlu repot mempertahankan kadar partikel di ruang kerja yang memenuhi standar Class 1–100.</strong></p> http://ir-heat-beam.com/id/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800 http://ir-heat-beam.com/id/posts/dry-film-resist-laminating-heater/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk pelapisan lapisan resisten film kering"></p> <p>Di lantai proses litografi, pemanas yang digunakan untuk proses pelapisan bukan sekadar alat untuk menghasilkan panas saja. Alat ini juga berperan dalam menentukan tingkat suhu yang diperlukan untuk seluruh bagian permukaan fotoresist. Jika terjadi perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan, maka hal tersebut akan berdampak pada viskositas bahan fotoresist, bentuk permukaannya, serta kontrol dimensi kritisnya. Ketika standar yang ditetapkan <a href="https://goldisgood.com">adalah</a> kehomogenan suhu sebesar ≤±0,1°C di seluruh permukaan substrat, maka pemanas yang digunakan bukanlah sekadar alat tambahan, melainkan elemen penting dalam proses pelapisan tersebut.</p>