<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/id/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/id/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/id/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses produksi dengan panjang gelombang 300 mm, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah termal biasa. Proses ini sangat penting untuk menjaga ketepatan dimensi komponen yang dihasilkan. Jika suhu selama proses pemanasan sedikit saja menyimpang dari rentang ±0,1°C, maka kontrol ketepatan dimensi tersebut akan terganggu. Pemanas konvensional memiliki masalah terkait repetibilitas suhu di bagian pinggir wafer, sementara oven konvektif dapat membawa kontaminan ke dalam ruang produksi. Di ruang bersih kelas 1–100, pembentukan partikel-partikel kecil dan downtime yang tidak terduga bukanlah masalah yang sepele; hal tersebut dapat merusak seluruh batch produksi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
