Pengering Rambu on Focused IR Heating Beams

Kontroler pengering inframerah digital

Mon, 20 Jul 2026 11:41:13 +0800

Hentikan kerusakan akibat pecahan kaca: Jaga kebersihan wafer dan keselamatan alat pengering
Jika Anda pernah mengalami situasi di mana lampu inframerah meledak saat proses produksi sedang berlangsung, Anda pasti tahu betapa mengerikannya situasinya. Dalam sekejap, segalanya masih baik-baik saja, tetapi lalu terjadi ledakan yang menyebabkan serpihan kaca dan filamen logam jatuh ke atas wafer-wafer tersebut.

Itu merupakan bencana yang sangat parah. Anda tidak hanya kehilangan satu wafer saja, tetapi juga bisa terjadi kontaminasi yang merusak seluruh batch produk yang dihasilkan. Kami telah meluangkan banyak waktu untuk mencari cara memblokir rantai kegagalan ini sebelum ia terjadi.

Pengering wafer berbasis gelombang inframerah dekat (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Pada proses produksi dengan panjang gelombang 300 mm, proses pemanasan bahan fotoresist bukanlah sekadar langkah termal biasa. Proses ini sangat penting untuk menjaga ketepatan dimensi komponen yang dihasilkan. Jika suhu selama proses pemanasan sedikit saja menyimpang dari rentang ±0,1°C, maka kontrol ketepatan dimensi tersebut akan terganggu. Pemanas konvensional memiliki masalah terkait repetibilitas suhu di bagian pinggir wafer, sementara oven konvektif dapat membawa kontaminan ke dalam ruang produksi. Di ruang bersih kelas 1–100, pembentukan partikel-partikel kecil dan downtime yang tidak terduga bukanlah masalah yang sepele; hal tersebut dapat merusak seluruh batch produksi.

Lampu pengering wafer DNS (Screen)

Fri, 05 Jun 2026 04:16:41 +0800

Di lantai litografi, pergeseran 1°C dalam soft bake atau hard bake bukanlah “kesalahan kecil.” Itu adalah dampak terhadap hasil, jelas dan sederhana. Anda melihat wafer keluar dari jalur dengan edge bead, penyebaran garis, atau pelarut yang tidak pernah sepenuhnya hilang—sisa yang muncul kemudian sebagai cacat. Apa yang Anda butuhkan adalah sumber panas yang memperlakukan seluruh wafer sebagai satu tubuh termal, bukan kumpulan titik panas dan dingin.

Presisi Inframerah: Uniformitas sub-millimeter, dapat diulang

Lampu pengering wafer DNS dibangun di sekitar pemanasan near-infrared (NIR) yang terkontrol, disetel untuk memberikan bidang termal yang seragam sub-millimeter di seluruh bidang wafer. Dalam praktiknya, itu berarti suhu photoresist yang konsisten dari pusat hingga tepi, sehingga soft bake menghilangkan pelarut secara merata dan hard bake mengunci profil resist—tanpa reflow atau scumming. Sistem ini mempertahankan repetibilitas dari lot ke lot dan shift ke shift, sehingga kinerja dimensi kritis (CD) Anda tidak menyimpang saat kondisi lingkungan berubah. Output lampu tetap stabil selama operasi panjang, dan desainnya menjaga generasi partikel mendekati nol—persis apa yang Anda butuhkan saat beroperasi di cleanroom Kelas 1–100.