Pengeringan on Focused IR Heating Beams

Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik

Mon, 27 Jul 2026 09:41:04 +0800

Menjaga Keamanan dengan Penggunaan Pemanas Infra Merah di Zona Kimia
Saat Anda mengeringkan wafer di pabrik semikonduktor, Anda sebenarnya sedang berhadapan dengan bahan-bahan kimia yang sangat reaktif. Ini merupakan situasi yang sangat berbahaya. Jika uap-uap tersebut bertemu dengan percikan api atau komponen yang suhunya terlalu tinggi, maka bisa terjadi ledakan. Itulah mengapa kita tidak sekadar membuat lampa IR biasa—kita melindunginya dengan lapisan pelindung agar bahan-bahan berbahaya tersebut tidak dapat menyerang bagian-bagian lampu yang aktif.

Mengatasi Masalah Uap
Sebagian besar lampa IR memiliki elektroda dan kabel yang terbuka. Di pabrik kimia, hal ini merupakan masalah besar. Kami menggunakan lapisan pelindung yang kuat serta segel khusus antara kuarsa dan logam. Bisa dikatakan ini seperti baju zirah yang melindungi bagian-bagian lampu yang berbeda tegangan dari uap-uap berbahaya di udara. Meskipun terjadi tumpahan bahan kimia atau uap-uap menumpuk, gas-gas tersebut tidak akan sampai ke bagian-bagian lampu yang aktif. Gas-gas tersebut tetap berada di luar, di tempat yang seharusnya.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 03:50:50 +0800

Jangan biarkan lampu yang rusak merusak seluruh produksi Anda: Pertahankan kebersihan wafer MEMS
Dalam sistem pembuatan MEMS dengan kapasitas tinggi, satu kerusakan kecil saja bisa merusak segalanya. Hal ini terjadi dalam sekejap: tabung inframerah pecah, dan wafer-wafer tersebut pun menjadi kotor akibat serpihan kaca dan debu logam. Ini merupakan situasi yang mengerikan, di mana seluruh produk dapat hancur dalam hitungan detik.

Kami merancang pemanas khusus agar Anda tidak perlu menghadapi masalah seperti ini.

Mengapa lampu bisa rusak
Sebagian besar kasus kerusakan disebabkan oleh guncangan termal atau adanya titik panas yang berlebihan. Untuk mengatasinya, kami menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi. Bahan ini sangat tahan terhadap perubahan suhu yang drastis, sehingga wafer tetap utuh meski melalui proses pemanasan atau pendinginan yang intens.

Pemanas pengering wafer MEMS

Sun, 07 Jun 2026 03:57:08 +0800

Back on the line, wafer MEMS basah keluar dari proses pembersihan dan menunggu. Tahapan selanjutnya—lapisan photoresist, soft bake, dan pengeringan bersih—memiliki toleransi nol terhadap pergeseran suhu. Jika ada titik panas 1°C pada permukaan, kontrol lebar garis menjadi tidak dapat diprediksi. Kami merancang pemanas pengering wafer MEMS ini untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut sebelum wafer masuk ke tumpukan litografi.

Yang penting di balik proses

Desain diprioritaskan agar mencapai keseragaman suhu ±0,1°C dalam kondisi stabil di seluruh bidang wafer. Photoresist sensitif terhadap gradien suhu, yang langsung berisiko menurunkan hasil produksi. Elemen pemanas menggunakan infrared gelombang pendek untuk melepas energi secara cepat dan tanpa kontak, sehingga hambatan panas dan perubahan suhu saat start tetap rendah. Material kuarsa dan yang kompatibel dengan ruang bersih menjaga jumlah partikel mendekati nol, sesuai standar lingkungan Class 1–100. Repeatabilitas dijaga agar anggaran termal yang sama bertahan dari siklus ke siklus—tanpa pergeseran profil pemanggangan antar batch.