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		<title>Laminazione on Focused IR Heating Beams</title>
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		<description>Recent content in Laminazione on Focused IR Heating Beams</description>
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				<title>Riscaldatore per laminazione del resistente a film secco</title>
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				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per laminazione del resistente a film secco&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nella fase di litografia, il riscaldatore utilizzato per la laminazione non si limita semplicemente ad aggiungere calore: esso stabilisce infatti il “budget termico” per l’intero profilo del fotoresist. Se si verifica una variazione di temperatura di 0,5°C durante la fase di essiccazione, ciò influisce negativamente sulla viscosità del materiale, sulle caratteristiche delle superfici e sul controllo delle dimensioni critiche del prodotto finale. Quando è richiesta un’omogeneità della temperatura entro i ±0,1°C su tutta la superficie del substrato, quel riscaldatore diventa elemento fondamentale per il processo di laminazione.&lt;/p&gt;</description>
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