Asciugatore di wafer a infrarossi vicini (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Nella linea di produzione da 300 mm, la fase di essiccazione del fotorest non è semplicemente un altro passaggio termico: rappresenta invece una condizione fondamentale per garantire la precisione dimensionale dei componenti prodotti. Se anche solo di poco, la temperatura durante i processi di essiccazione dovesse deviare da ±0,1°C, tutto il sistema di controllo delle dimensioni dei componenti andrà in tilt. Le piastre riscaldanti tradizionali presentano problemi legati alla ripetibilità dei risultati, mentre i forni a convezione introducono contaminazioni dovute alle particelle presenti nell’aria. In una sala pulita di classe 1–100, la formazione di particelle e i tempi di fermata imprevisti non costano soltanto pochi minuti, ma interi lotti di prodotto.

(NIR) on Focused IR Heating Beams

Asciugatore di wafer a infrarossi vicini (NIR)