http://ir-heat-beam.com/it/tags/sicurezza/ Recent content in Sicurezza on Focused IR Heating Beams Hugo it Sat, 20 Jun 2026 06:00:48 +0800 http://ir-heat-beam.com/it/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Sat, 20 Jun 2026 06:00:48 +0800 http://ir-heat-beam.com/it/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Distanza di sicurezza per il riscaldamento della wafer"></p> <p>Nella sala di litografia, quella distanza di sicurezza attorno al wafer in fase di riscaldamento non rappresenta certo una “zona di comfort”. Si tratta piuttosto di un limite fondamentale per il corretto funzionamento del processo. Se ci si avvicina troppo, si rischia interazioni termiche indesiderate, distorsioni nel profilo del fotoresist e movimenti delle particelle presenti nell’ambiente. Se invece ci si allontana troppo, il riscaldamento non è sufficiente: l’uniformità della struttura del wafer esce così dai limiti previsti. Abbiamo progettato la piattaforma di riscaldamento in modo che mantenga esattamente questa distanza, in modo che il bilancio termico rimanga entro i limiti consentiti dal fotoresist.</p>