Nella sala di litografia, quella distanza di sicurezza attorno al wafer in fase di riscaldamento non rappresenta certo una “zona di comfort”. Si...

Nella linea di produzione da 300 mm, la fase di essiccazione del fotorest non è semplicemente un altro passaggio termico: rappresenta invece una...

Back on the line, un wafer MEMS bagnato esce dalla fase di pulizia e resta in attesa. La tappa successiva—rivestimento con fotoresist, soft bake e...