ウェーハ on Focused IR Heating Beams

省エネ型ウェーハヒーター

Sat, 25 Jul 2026 05:00:03 +0800

揮発性化学物質の近くでウェーハを加熱する際に、安全を確保する方法
正直言って、赤外線ランプを可燃性溶剤や爆発性の蒸気のすぐそばに置くのは、非常に危険な行為です。もし、化学洗浄ラインで通常のオープン型のランプを使用しているのであれば、それはまるで災害を招くことに他なりません。

MEMSセンサーワークの乾燥ヒーター

Tue, 21 Jul 2026 03:50:50 +0800

壊れたランプによって、生産されるウェーハが台無しになってはいけません。MEMSウェーハを清潔に保つことが重要です。

大量生産の環境では、1つの故障が全体を台無しにしてしまうことがあります。例えば、赤外線ランプが破損すると、ウェーハは湿っただけでなく、ガラスの破片や金属の粉で覆われてしまいます。これは、数秒間で全てのウェーハが廃棄されてしまうという悪夢のような状況です。

ウェーハ用高精度IRセンサー

Tue, 14 Jul 2026 10:48:44 +0800

工具の内壁にエネルギーを無駄に使うのはやめましょう。
シリコンウェーハを加熱するには大量のエネルギーが必要です。問題は、一般的なIR装置ではその熱があちこちに散らばってしまうことです。結果として、エネルギーの大部分がウェーハではなく、工具の内壁に当たってしまいます。
要するに、装置の筐体が巨大なヒートシンクの役割を果たしてしまい、外側のケースが非常に高温になり、冷却システムに過度な負担がかかります。これは単純に無駄な行為です。

ウェーハ硬化ランプ用反射板

Sat, 11 Jul 2026 09:03:11 +0800

疲労したランプがウェーハを破壊するのを防ごう
高負荷でウェーハの硬化処理を行っているとき、ランプが壊れるというのは、単なる面倒ごとや短時間の停止にとどまりません。それは本当に悪夢です。
もしクォーツチューブが破裂すれば、ガラスの破片やハロゲンの沈着物が直接シリコン上に降り注ぎます。一度破損すれば、そのロット全体が無駄になってしまいます。これは即座の汚染事故です。
私たちは、そうしたことが起こらないような方法を考案しました。つまり、反射器の中に物理的な遮蔽壁を設けたのです。

ウェーハ処理用温度センサー

Thu, 09 Jul 2026 03:51:09 +0800

問題点：ウェーハ処理装置における熱の管理
ウェーハ処理装置について話しましょう。確かに、熱は必要ですが、それは正確で制御された熱でなければなりません。
従来の方法では、熱があちこちに散らばってしまい、エネルギーが無駄になります。また、チャンバーの壁面が過度に加熱され、危険を招くこともあります。
そこで、私たちはより良い方法を考案しました。それが指向性赤外線加熱です。これにより、熱が目的の場所にだけ集中し、他の部分には影響しません。エネルギーの無駄もなく、装置の壁面が過度に加熱される心配もありません。

ウェーハ加熱時の安全距離

Sat, 20 Jun 2026 06:00:48 +0800

リソグラフィーの工程では、ウエハーを加熱する際の安全距離というのは、単なる「快適な範囲」などではありません。それは厳格な制御が必要な領域です。距離が近すぎると、熱的な干渉やレジストの形状歪み、粒子の移動が起こります。一方、距離が遠すぎると、十分な加熱効果が得られず、CDの均一性が規格から外れてしまいます。私たちは、その距離を正確に保つように加熱プラットフォームを設計しており、そうすることで熱的条件がレジストの特性範囲内に留まります。

技術的に重要な点 私たちは、全加熱サイクルを通じてウエハー全体の温度均一性を±0.1°C以内に保っています。ソフトベイクおよびハードベイクの温度は、線幅や側壁角度に直接影響を与えるため、この許容範囲は任意のものではありません。このシステムはクリーンルームクラス1～100に対応しており、低ガス放出型の材料や密閉された熱伝達経路を使用しています。定常状態では、粒子の発生はゼロになります。また、このシステムは24時間365日稼働可能で、予期せぬ停止はありません。予測可能な温度上昇、安定した保持時間、再現性のある冷却が特徴です。各加熱サイクルは厳格な許容範囲内で繰り返され、この一貫性こそが、ロット間の品質を保証する要素です。

近赤外線 NIR ウェーハ乾燥装置

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

300mmラインにおいて、フォトレジストのベイク処理は単なる加熱工程ではありません。それは、製品の寸法精度を保証するための重要な工程なのです。もしソフトベイクやハードベイクの温度が±0.1℃からわずかにでも外れてしまうと、製品の寸法精度が崩れてしまいます。従来のホットプレート式装置ではウェーハの端部分の再現性が悪く、対流式オーブンでは空気中の汚染物質が問題となります。クラス1～100のクリーンルームでは、粒子の発生や予期しない停止時間は数分程度の損失に留まらず、全体の生産コストに影響を与えます。

内部で何が重要か 私たちは、近赤外線を利用したウェーハドライヤーを開発しました。これにより、空気の流れがない状態で直接、ウェーハ全体を均一に加熱することができます。その結果、プロセス全体を通じてウェーハの温度が±0.1℃以内に保たれ、フォトレジストの温度も数秒で所定値に到達します。空気の流れがないため、粒子の発生もありません。チャンバーは完全に密閉されているため、ウェーハに触れるのはウェーハ自体だけです。