Pada garis pengeluaran 300mm, proses pemanggangan bahan fotorezist bukan sekadar langkah pemanasan biasa. Ia merupakan faktor penting yang menentukan ketepatan dimensi komponen tersebut. Jika suhu semasa proses pemanggangan berbeza walaupun sebanyak ±0.1°C, maka kawalan ketepatan dimensi akan terjejas. Kaedah pemanasan konvensional menyebabkan ketidakkonsistenan pada permukaan wafer, manakala ketuhar jenis konvektif pula boleh membawa masuk kotoran ke dalam ruang pengeluaran. Dalam bilik bersih kelas 1–100, pembentukan zarah-zarah debu dan masa henti yang tidak dijangka bukanlah masalah kecil; ia boleh merosakkan keseluruhan proses pengeluaran.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami membina alat pengering wafer NIR berdasarkan radiasi inframerah dekat. Pendekatan ini membolehkan pemanasan yang seragam pada seluruh permukaan wafer, dengan ketepatan ±0.1°C sepanjang proses pengeluaran. Suhu bahan fotorezist juga dapat dikawal dengan tepat dalam masa beberapa saat sahaja. Tanpa adanya udara yang bergerak, tiada zarah debu yang akan terbentuk. Bilik pengeluaran ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan komponen-komponen yang tahan lama serta reka bentuk termal yang memastikan konsistensi hasil pengeluaran walaupun selepas ribuan kitaran. Keserasian dengan bilik bersih juga telah disertakan dalam reka bentuk ini. Alat ini juga dilengkapi sistem pengedap mekanikal dan kimia yang efektif, agar jumlah zarah debu tetap rendah.
Mengapa ini penting dalam proses litografi
Dalam proses litografi, keterseragaman suhu sangat penting untuk memastikan kestabilan dan kualiti hasil pengeluaran. Alat pengering NIR mengurangkan masa pemanasan, mengurangkan penggunaan tenaga, serta menghilangkan variasi suhu yang disebabkan oleh faktor-faktor seperti stratifikasi haba atau kehilangan tenaga di bahagian tepi ketuhar. Ini seterusnya memungkinkan pengeluaran yang lebih konsisten, dengan penurunan jumlah kerja pembaikan, dan prestasi proses yang lebih boleh diramalkan.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana tenaga digunakan secara langsung untuk memanaskan wafer, bukan untuk memanaskan udara atau komponen-komponen lain. Jangka masa penyelenggaraan juga bertambah panjang kerana terdapat sedikit sekali bahagian yang mudah rosak. Selain itu, jendela waktu pengeluaran juga menjadi lebih luas kerana keterseragaman suhu bukan lagi faktor yang menghalang proses pengeluaran.
Apa yang perlu anda persiapkan
Alat NIR memerlukan laluan cahaya yang jelas ke permukaan wafer. Oleh itu, susunan alat tersebut perlu memastikan laluan cahaya tersebut tetap lancar di dalam bilik pengeluaran. Semasa mengintegrasikannya dengan sistem sedia ada, perlu diberi perhatian kepada aspek mekanikal dan protokol komunikasi. Kami menyediakan spesifikasi antaramuka lebih awal agar anda tidak menghadapi masalah semasa integrasi nanti.
Pada tahap pengujian awal, anda perlu melakukan proses pemanasan singkat untuk menyesuaikan parameter penggunaan bahan fotorezist. Setelah itu, proses pengeluaran akan berjalan dengan lancar, konsisten, dan tanpa gangguan. Hari demi hari, lot demi lot.