<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Cucilah on Fokus pemanasan IR berkas</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/ms/tags/cucilah/</link>
		<description>Recent content in Cucilah on Fokus pemanasan IR berkas</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 24 Jul 2026 11:55:01 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/ms/tags/cucilah/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah yang kalis air untuk tujuan mencuci</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/reducing-equipment-wall-temperature-in-semiconductor-rinse-stages-via-directional-infrared-heating/</link>
				<pubDate>Fri, 24 Jul 2026 11:55:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/reducing-equipment-wall-temperature-in-semiconductor-rinse-stages-via-directional-infrared-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah yang kalis air untuk tujuan mencuci.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mengatasi masalah “dinding panas” dalam proses pembilasan semikonduktor&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Jika anda pernah terlibat dalam proses pemprosesan semikonduktor secara basah, anda pasti tahu betapa sukarnya cara ini. Anda perlu memanaskan wafer semasa proses pembilasan, tetapi anda tidak mahu peralatan tersebut berubah menjadi “oven” yang panas.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pemanas radiasi tradisional sebenarnya hanyalah mentol lampu biasa – ia mengeluarkan haba ke semua arah. Ini bermakna dinding dalaman peralatan akan menjadi sangat panas. Ini merupakan pembaziran tenaga, dan secara keseluruhannya, ia juga merupakan ancaman keselamatan bagi mereka yang bekerja berhampiran mesin tersebut.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
