IR on Focused IR Heating Beams

Hujung porselin untuk pemancar IR

Mon, 27 Jul 2026 09:12:37 +0800

Mengapa Penutup Seramik Sangat Penting dalam Sistem Inframerah
Dalam bidang pengeluaran semikonduktor, kualiti hasil pengeluaran bergantung sepenuhnya pada cara kita menguruskan perbezaan suhu pada permukaan wafer tersebut. Kita menggunakan pemancar inframerah untuk memastikan suhu yang tepat dihasilkan. Filamen tungstenlah yang bertugas untuk menghasilkan haba tersebut, tetapi penutup seramik pula berfungsi untuk mencegah sistem daripada rosak akibat tekanan haba yang berlebihan.

Bahagian yang paling rumit ialah antaramuka antara penutup seramik dan komponen elektrik lain.
Anggaplah penutup seramik sebagai jambatan antara lapisan kuarza dan kabel elektrik. Kita menggunakan bahan alumina berkualiti tinggi kerana ia mampu menahan tekanan yang timbul apabila kaca dan logam mengembang pada kadar yang berbeza. Jika penutup ini rosak, oksigen akan masuk ke dalam sistem tersebut. Akibatnya, filamen akan rosak dalam masa beberapa minit sahaja. Ini merupakan situasi yang sangat buruk.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Wed, 22 Jul 2026 04:47:39 +0800

Dapatkan manfaat maksimum daripada penggunaan reflektor aluminium
Mari kita jujur: membuang tenaga dalam proses pengeringan dan penyembuhan bahan menggunakan semikonduktor merupakan pembaziran wang. Kebanyakan masa, sinaran inframerah hanya masuk ke dalam badan mesin tanpa memberikan sebarang kesan positif. Itulah sebabnya kita menggunakan reflektor aluminium. Reflektor ini akan menangkap haba yang berlebihan tersebut dan memantulkannya kembali ke permukaan bahan yang sedang diproses.

Ia merupakan cara yang mudah, tetapi inilah sebabnya mengapa kaedah penyembuhan menggunakan sinar inframerah dapat mencapai standard “mesra alam” untuk bilik-bilik bersih moden. Tiada bahan pelarut organik yang digunakan, tiada pembaziran tenaga – hanya jejak karbon yang lebih rendah untuk setiap kitaran pemprosesan.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Tue, 14 Jul 2026 10:48:44 +0800

Hentikan pembaziran tenaga pada dinding alat tersebut

Menghangatkan wafer silikon memerlukan banyak tenaga. Masalahnya ialah kebanyakan sistem IR biasa akan menyebarkan haba tersebut ke segala arah. Sebahagian besar tenaga tersebut akhirnya terhadap dinding dalaman alat tersebut, bukannya pada wafer itu sendiri.

Pada dasarnya, badan mesin tersebut menjadi penyerap haba yang besar. Ini menyebabkan permukaan luar mesin menjadi sangat panas sehingga boleh membahayakan pengguna. Sistem penyejukan pula perlu bekerja lebih keras daripada yang sepatutnya. Ia merupakan pembaziran tenaga yang tidak perlu.