<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kering on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/ms/tags/kering/</link>
		<description>Recent content in Kering on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/ms/tags/kering/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk proses pelapisan lapisan penahan kering</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/dry-film-resist-laminating-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:54:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/dry-film-resist-laminating-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk proses pelapisan lapisan penahan kering&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai proses litografi, pemanas yang &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;digunakan&lt;/a&gt; untuk proses pelapisan bukan sekadar memberikan haba semata-mata. Ia juga berfungsi untuk menetapkan tahap haba yang diperlukan untuk keseluruhan proses penggunaan bahan fotoresist tersebut. Jika terdapat perbezaan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran lembut, ia akan mempengaruhi sifat viskositi bahan tersebut, serta kawalan dimensi yang tepat. Apabila spesifikasi yang ditetapkan adalah kestabilan suhu sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan substrat, maka pemanas yang digunakan bukanlah sekadar alat tambahan, tetapi merupakan unsur penting dalam proses ini.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
