<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keselamatan on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/ms/tags/keselamatan/</link>
		<description>Recent content in Keselamatan on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 06:00:50 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/ms/tags/keselamatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 06:00:50 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi tersebut, jarak keselamatan yang diperlukan di sekitar wafer semasa proses pemanasan bukanlah kawasan yang selesa untuk beroperasi. Ia merupakan batasan yang perlu dipatuhi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Jika kita terlalu dekat dengan wafer, ia akan menyebabkan masalah seperti gangguan termal, gangguan pada struktur permukaan wafer, serta pergerakan zarah-zarah di dalamnya. Sebaliknya, jika kita terlalu jauh, proses pemanasan tidak akan berkesan sepenuhnya, dan keseragaman ketebalan lapisan fotoresist akan terjejas. Kami telah merancang platform pemanasan ini agar jarak tersebut dapat dikekalkan dengan tepat, supaya suhu yang digunakan tetap berada dalam julat yang ditetapkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
