<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>(NIR) on Focused IR Heating Beams</title>
		<link>http://ir-heat-beam.com/ms/tags/nir/</link>
		<description>Recent content in (NIR) on Focused IR Heating Beams</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-beam.com/ms/tags/nir/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer inframerah dekat (NIR)</title>
				<link>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-beam.com/ms/posts/near-infrared-nir-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-beam.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer inframerah dekat (NIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada garis pengeluaran 300mm, proses pemanggangan bahan fotorezist bukan sekadar langkah pemanasan biasa. Ia merupakan faktor penting yang menentukan ketepatan dimensi komponen tersebut. Jika suhu semasa proses pemanggangan berbeza walaupun sebanyak ±0.1°C, maka kawalan ketepatan dimensi akan terjejas. Kaedah pemanasan konvensional menyebabkan ketidakkonsistenan pada permukaan wafer, manakala ketuhar jenis konvektif pula boleh membawa masuk kotoran ke dalam ruang pengeluaran. Dalam bilik bersih kelas 1–100, pembentukan zarah-zarah debu dan masa henti yang tidak dijangka bukanlah masalah kecil; ia boleh merosakkan keseluruhan proses pengeluaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
