Pengeringan on Focused IR Heating Beams

Pemeriksaan tenaga untuk proses pengeringan bahan di kilang

Mon, 27 Jul 2026 09:41:04 +0800

Mengekalkan Keselamatan Menggunakan Pemanas IR di Zon Kimia
Ketika anda mengeringkan wafer di kilang semikonduktor, anda sebenarnya sedang berurusan dengan bahan kimia yang sangat mudah terbakar. Ini merupakan situasi yang sangat berbahaya. Jika wap tersebut bertemu dengan percikan api atau komponen yang terlalu panas, ia boleh menyebabkan letupan. Itulah sebabnya kita tidak menggunakan lampu IR secara langsung—sebaliknya, ia dilindungi oleh lapisan pelindung yang dapat mencegah berlakunya letupan.

Mengatasi Masalah Wap
Kebanyakan lampu IR membiarkan elektrod dan kabelnya terdedah. Di kilang kimia, ini merupakan situasi yang sangat berbahaya. Kita menggunakan cara yang berbeza. Kita gunakan lapisan luar yang kukuh serta sistem pengedap khusus antara kuarsa dan logam. Ia berfungsi seperti baju perisai yang melindungi bahagian-bahagian yang berkuasa tinggi daripada wap kimia. Walaupun berlaku tumpahan bahan kimia atau wap yang menumpuk, gas tersebut tidak akan sampai ke bahagian yang berkuasa tinggi. Ia akan tetap berada di luar, di tempat yang sepatutnya.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 03:50:50 +0800

Jangan biarkan lampu yang rosak merosakkan keseluruhan proses penghasilan produk anda: Pastikan wafer MEMS kekal bersih.
Dalam sistem pengeluaran MEMS yang berskala besar, kerosakan pada satu lampu sahaja sudah cukup untuk merosakkan segalanya. Ia berlaku dengan cepat – tiub inframerah pecah, dan wafer tersebut akan dipenuhi dengan serpihan kaca dan zarah logam. Ini merupakan situasi yang sangat buruk, di mana keseluruhan produk akan musnah dalam masa beberapa saat sahaja.

Kami membina pemanas khas agar anda tidak perlu menghadapi masalah seperti ini.

Pemanas pengeringan wafer MEMS

Sun, 07 Jun 2026 03:57:08 +0800

Back on the line, wafer MEMS basah keluar dari proses pembersihan dan menunggu. Perhentian seterusnya—lapisan fotoresist, penaik lembut, dan pengeringan bersih—tidak boleh menerima penyimpangan haba sama sekali. Sekiranya permukaan terdedah kepada titik panas 1°C, kawalan lebar garis akan menjadi tidak menentu. Kami membina pemanas pengering wafer MEMS ini untuk menghapuskan ketidaktentuan tersebut sebelum ia masuk ke dalam susunan litografi.

Apa yang penting di sebalik proses
Reka bentuk kami menetapkan kebolehan seragam ±0.1°C dalam keadaan mantap merentasi satah wafer. Fotoresist cukup sensitif sehingga sebarang gradien suhu merupakan risiko langsung terhadap hasil. Elemen pemanas menggunakan inframerah gelombang pendek untuk menghantar tenaga secara cepat dan tanpa sentuhan, supaya kelewatan haba dan perubahan suhu awal kekal rendah. Bahan kuarza dan yang sesuai dengan bilik bersih memastikan penghasilan zarah hampir sifar, sesuai untuk persekitaran Kelas 1–100. Kebolehulangan dikawal ketat supaya anggaran haba yang sama dapat dikekalkan, kitaran demi kitaran—tanpa perubahan profil penaikan antara lote.