Alat ganti untuk peralatan fabrikasi profesional

Thu, 02 Jul 2026 09:03:10 +0800

Di kilang pemprosesan semikonduktor, perubahan suhu semasa proses pembakaran tidak akan ditunjukkan melalui amaran khusus. Sebaliknya, ia akan menyebabkan variasi ketebalan lapisan fotoresist, masalah kelekatan antara bahan-bahan yang digunakan, serta penurunan kualiti produk secara beransur-ansur. Apabila ketuhar atau modul lampu tidak berfungsi dengan baik, profil fotoresist akan terjejas, dan proses pengikisan juga akan terganggu. Stabiliti termal bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; kita harus mengawalnya, atau proses pengeluaran akan terjejas.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan modul pemanas yang mempunyai keupayaan pengeluaran haba yang terkawal, serta lampu yang mempunyai panjang gelombang yang sesuai. Dengan cara ini, tahap keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dapat dicapai pada tahap ±0.1°C. Ini sangat penting kerana proses pembakaran lembut membantu menstabilkan viskositi fotoresist dan menghilangkan bahan pelarut, manakala proses pembakaran keras pula membantu meningkatkan kekuatan ikatan antara bahan-bahan yang digunakan. Keseragaman suhu yang tinggi dapat mengurangkan masalah pantulan cahaya dan memastikan dimensi yang tepat dapat dipertahankan. Reka bentuk modul ini juga membantu mengurangkan penghasilan zarah-zarah kecil, sehingga memastikan persekitaran di bilik bersih berkualiti tinggi. Ketepatan proses litografi dan pengikisan juga dapat dipertahankan kerana modul ini direka untuk beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap.

Profesional on Focused IR Heating Beams

Alat ganti untuk peralatan fabrikasi profesional