http://ir-heat-beam.com/ms/tags/uv/ Recent content in UV on Focused IR Heating Beams Hugo ms Fri, 26 Jun 2026 05:13:35 +0800 http://ir-heat-beam.com/ms/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 05:13:35 +0800 http://ir-heat-beam.com/ms/posts/deep-uv-duv-resist-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-beam.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampu untuk proses pembakaran bahan penolak cahaya UV dalam gelombang panjang (DUV)"></p> <p>Di ruang pemprosesan litografi, seseorang akan belajar dengan cepat: sebarang perubahan kecil pada suhu pengeringan boleh menyebabkan masalah yang tidak dijangka. Perbezaan suhu sebanyak setengah darjah sahaja sudah cukup untuk menyebabkan dimensi kritikal wafer menjadi tidak tepat. Selain itu, kehadiran zarah-zarah tertentu juga boleh merosakkan wafer yang baik menjadi wafer yang tidak boleh digunakan lagi. Lampu pengeringan DUV membantu mengelakkan masalah ini.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kita memerlukan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, agar seluruh permukaan fotoresist dapat dikeringkan dengan cara yang sama, dari satu pengeluaran ke pengeluaran yang lain. Cahaya berfrekuensi tinggi serta reka bentuk yang dioptimasikan untuk kuarsa membolehkan proses pengeringan berlaku dengan <a href="https://o-yate.net">cepat</a> dan terkawal, tanpa adanya kawasan panas. Sistem ini juga bebas daripada pelepasan zarah, jadi tiada <a href="https://goldisgood.com">keperluan</a> untuk memastikan jumlah zarah dalam bilik bersih berada dalam julat yang ditetapkan.</p>