Wafer on Focused IR Heating Beams

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Sat, 25 Jul 2026 05:00:03 +0800

Menjaga Keselamatan Semasa Memanaskan Wafer Berhampiran Bahan Kimia yang Mudah Terbakar

Sejujurnya, meletakkan lampu inframerah betul-betul bersebelahan dengan bahan kimia yang mudah terbakar merupakan tindakan yang sangat berisiko. Jika anda menggunakan lampu biasa dalam proses pembersihan bahan kimia, anda sebenarnya sedang membiarkan risiko bencana berlaku.

Kita atasi masalah ini dengan menggunakan reka bentuk khas yang melindungi lampu tersebut.

Bagaimana “Buih Keselamatan” Berfungsi

Kita membungkus lampu tersebut dengan kuarsa berkualiti tinggi atau kaca khas. Tujuannya bukan sekadar untuk menjaga kebersihan, tetapi juga untuk mencipta penghalang fizikal antara komponen elektrik dan udara di sekelilingnya.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Tue, 21 Jul 2026 03:50:50 +0800

Jangan biarkan lampu yang rosak merosakkan keseluruhan proses penghasilan produk anda: Pastikan wafer MEMS kekal bersih.
Dalam sistem pengeluaran MEMS yang berskala besar, kerosakan pada satu lampu sahaja sudah cukup untuk merosakkan segalanya. Ia berlaku dengan cepat – tiub inframerah pecah, dan wafer tersebut akan dipenuhi dengan serpihan kaca dan zarah logam. Ini merupakan situasi yang sangat buruk, di mana keseluruhan produk akan musnah dalam masa beberapa saat sahaja.

Kami membina pemanas khas agar anda tidak perlu menghadapi masalah seperti ini.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Tue, 14 Jul 2026 10:48:44 +0800

Hentikan pembaziran tenaga pada dinding alat tersebut

Menghangatkan wafer silikon memerlukan banyak tenaga. Masalahnya ialah kebanyakan sistem IR biasa akan menyebarkan haba tersebut ke segala arah. Sebahagian besar tenaga tersebut akhirnya terhadap dinding dalaman alat tersebut, bukannya pada wafer itu sendiri.

Pada dasarnya, badan mesin tersebut menjadi penyerap haba yang besar. Ini menyebabkan permukaan luar mesin menjadi sangat panas sehingga boleh membahayakan pengguna. Sistem penyejukan pula perlu bekerja lebih keras daripada yang sepatutnya. Ia merupakan pembaziran tenaga yang tidak perlu.

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Sat, 11 Jul 2026 09:03:13 +0800

Berhenti biarkan lampu yang rosak merosakkan wafer anda

Ketika proses penyembuhan wafer dilakukan dengan beban tinggi, kegagalan lampu bukan sekadar masalah kecil atau gangguan sementara. Ia merupakan bencana sebenar.

Jika tiub kuarza pecah, serpihan kaca dan endapan halogen akan jatuh terus ke atas permukaan silikon. Ini akan merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Ia merupakan bencana pencemaran yang serius.

Kami telah mencari cara untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku. Kami membina pelindung fizikal dalam struktur reflektor tersebut.

Pengesan suhu untuk alat pemprosesan wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:51:09 +0800

Masalahnya: Mengawal suhu dalam alat pemprosesan wafer
Mari kita bincangkan tentang alat-alat yang digunakan untuk memproses wafer. Memang benar bahawa alat-alat ini memerlukan haba, tetapi haba yang diperlukan ialah haba yang tepat dan terkawal.

Kaedah lama? Ia sangat tidak efisien. Haba dilepaskan ke seluruh kawasan, sehingga menyebabkan pembaziran tenaga dan merosakkan dinding ruang pemprosesan akibat haba yang berlebihan.

Oleh itu, kami mencipta cara yang lebih baik. Kami menggunakan sistem pemanasan inframerah yang bertujuan untuk memberikan haba secara tepat pada sasaran yang diinginkan. Dengan cara ini, tiada lagi pembaziran tenaga, dan risiko kerosakan pada dinding alat juga dapat dikurangkan.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sat, 20 Jun 2026 06:00:50 +0800

Di bilik litografi tersebut, jarak keselamatan yang diperlukan di sekitar wafer semasa proses pemanasan bukanlah kawasan yang selesa untuk beroperasi. Ia merupakan batasan yang perlu dipatuhi.

Jika kita terlalu dekat dengan wafer, ia akan menyebabkan masalah seperti gangguan termal, gangguan pada struktur permukaan wafer, serta pergerakan zarah-zarah di dalamnya. Sebaliknya, jika kita terlalu jauh, proses pemanasan tidak akan berkesan sepenuhnya, dan keseragaman ketebalan lapisan fotoresist akan terjejas. Kami telah merancang platform pemanasan ini agar jarak tersebut dapat dikekalkan dengan tepat, supaya suhu yang digunakan tetap berada dalam julat yang ditetapkan.

Pengering wafer inframerah dekat (NIR)

Wed, 17 Jun 2026 16:01:06 +0800

Pada garis pengeluaran 300mm, proses pemanggangan bahan fotorezist bukan sekadar langkah pemanasan biasa. Ia merupakan faktor penting yang menentukan ketepatan dimensi komponen tersebut. Jika suhu semasa proses pemanggangan berbeza walaupun sebanyak ±0.1°C, maka kawalan ketepatan dimensi akan terjejas. Kaedah pemanasan konvensional menyebabkan ketidakkonsistenan pada permukaan wafer, manakala ketuhar jenis konvektif pula boleh membawa masuk kotoran ke dalam ruang pengeluaran. Dalam bilik bersih kelas 1–100, pembentukan zarah-zarah debu dan masa henti yang tidak dijangka bukanlah masalah kecil; ia boleh merosakkan keseluruhan proses pengeluaran.

Pemanas pengeringan wafer MEMS

Sun, 07 Jun 2026 03:57:08 +0800

Back on the line, wafer MEMS basah keluar dari proses pembersihan dan menunggu. Perhentian seterusnya—lapisan fotoresist, penaik lembut, dan pengeringan bersih—tidak boleh menerima penyimpangan haba sama sekali. Sekiranya permukaan terdedah kepada titik panas 1°C, kawalan lebar garis akan menjadi tidak menentu. Kami membina pemanas pengering wafer MEMS ini untuk menghapuskan ketidaktentuan tersebut sebelum ia masuk ke dalam susunan litografi.

Apa yang penting di sebalik proses
Reka bentuk kami menetapkan kebolehan seragam ±0.1°C dalam keadaan mantap merentasi satah wafer. Fotoresist cukup sensitif sehingga sebarang gradien suhu merupakan risiko langsung terhadap hasil. Elemen pemanas menggunakan inframerah gelombang pendek untuk menghantar tenaga secara cepat dan tanpa sentuhan, supaya kelewatan haba dan perubahan suhu awal kekal rendah. Bahan kuarza dan yang sesuai dengan bilik bersih memastikan penghasilan zarah hampir sifar, sesuai untuk persekitaran Kelas 1–100. Kebolehulangan dikawal ketat supaya anggaran haba yang sama dapat dikekalkan, kitaran demi kitaran—tanpa perubahan profil penaikan antara lote.