Drogen on Focused IR Heating Beams

Energieonderzoek voor fabrieksdroging

Mon, 27 Jul 2026 09:41:04 +0800

Het behouden van de veiligheid met IR-verwarming in chemische omgevingen
Wanneer je chips droogt in een semiconductiefabriek, heb je te maken met behoorlijk gevaarlijke chemicaliën. Het is een complexe situatie. Als deze dampen in contact komen met lucht en er een vonk ontstaat of als een component te heet wordt, kan dat leiden tot een explosie. Daarom maken we IR-lampen niet zomaar – we verpakken ze in een beschermend omhulsel dat voorkomt dat er gevaarlijke situaties ontstaan.

Omgaan met dampen
De meeste IR-lampen hebben de elektroden en kabels blootliggend. In een chemische fabriek is dit een nachtmerrie. Wij doen dit anders: we gebruiken een stevig buitenlaagje en een speciaal isolatiemateriaal tussen het kwarts en het metaal. Denk er maar aan als een soort pantser. Hierdoor wordt er een fysieke barrière gecreëerd tussen de hoge-spanningsonderdelen en de dampen in de lucht. Zelfs wanneer er een chemische lekking optreedt of de dampen zich ophopen, kunnen deze niet bij de geïnundeerde onderdelen van de lamp komen. Ze blijven dus buiten, waar ze horen te zijn.

MEMS sensoren droogheater voor wafers

Tue, 21 Jul 2026 03:50:50 +0800

Laat een kapotte lamp je productie niet verpesten: houd de MEMS-wafer schoon
In een systeem met hoge productiesnelheden kan één defecte lamp alles bederven. Het gebeurt in een oogwenk: een infraroodbuis barst en plotseling zijn je wafer niet alleen nat, maar ook bedekt met glasscherven en metalen deeltjes. Het is een nachtmerriescenario waarbij een hele batch in seconden tijd verloren gaat.

Wij bouwen onze warmtebronnen speciaal zo dat jij hier geen last van hoeft te hebben.

MEMS wafel droogverhitter

Sun, 07 Jun 2026 03:57:07 +0800

Terug in de lijn komt een nat MEMS-wafer uit de reiniging en wacht. De volgende stap—photoresist coating, soft bake en een schone droogfase—vereist nul tolerantie voor thermische afwijkingen. Een hot spot van 1°C op het oppervlak verandert de lijnbreedtecontrole in een onzekere factor. We hebben deze MEMS-wafer droger ontworpen om die onzekerheid weg te nemen voordat deze in de lithografiestapel komt.

Wat er onder de motorkap telt
Het ontwerp is gericht op ±0,1°C steady-state uniformiteit over het wafervlak. Photoresist is zo gevoelig dat elke temperatuurgradiënt een direct risico vormt voor de opbrengst. Het verwarmingselement gebruikt kortegolf-infrarood om energie snel en contactloos toe te voegen, waardoor thermische vertraging en koude-startschommelingen laag blijven. Kwarts en cleanroomcompatibele materialen houden de deeltjesgeneratie vrijwel nihil, wat geschikt is voor Class 1–100 omgevingen. Herhaalbaarheid is gegarandeerd, zodat hetzelfde thermische budget wordt gehandhaafd, cyclus na cyclus—zonder verschuiving in het bake-profiel tussen batches.